Cadence发布7纳米工艺Virtuoso先进工艺节点扩展平台

下一代定制设计平台大幅提升先进工艺生产力

2017å¹´4月18日，中国上海 – 楷登电子（美国Cadence公司，NASDAQ: CDNS）今日正式发布针对7nm工艺的全新Virtuoso^® å…ˆ 进工艺节点平台。通过与采用7nm FinFET工艺的早期客户展开紧密合作，Cadence成功完成了Virtuoso定制设计平台的功能拓展，新平台能帮助客户管理由于先进工艺所导致的 更复杂的设计以及特殊的工艺效应。新版Virtuoso先进工艺平台同样支持所有主流FinFET先进节点，性能已得到充分认证；同时提高了7nm工艺的 设计效率。

为了应对7nm设计的众多技术挑战，Virtuoso先进工艺平台提供丰富的版图设计功能，包括：支持多重曝光（MPT）的色彩感知的编辑功能、支 持FinFET网格功能、及支持模块生成器（ModGen）器件阵列编辑功能等多种高级编辑功能。同时，在电路设计流程中，客户可以使用Spectre^® APS仿真器、Virtuoso ADE产品套件和Virtuoso 原理图编辑器执行对多工艺边界的蒙特卡洛分析（Monte Carlo Analysis），从而加强电路设计的差异分析。

如需了解7nm工艺Virtuoso先进工艺节点扩展平台的全新内容，请参访www.cadence.com/go/virtuosoadvancednode。

“作为移动运算的领军企业之一，我们致力于以最高性能、最低功耗和最高密度实现创新的先进工艺节点设计，”联发科技（MediaTek）模拟设计与 电路技术部总经理Ching San Wu表示。“我们与Cadence长期开展密切合作，成功开发并部署了基于Virtuoso先进工艺节点平台的定制设计方法。采用Cadence针对 7nm工艺专门开发的多项独特功能，我们得以成功实现近期的流片。”

新版Virtuoso先进工艺节点平台的主要特色包括：

• 多重曝光和色彩感知版图：新平台为各种色彩感知“多重曝光”定制设计流程提供关键支持，符合7nm工艺的基准要求，并助用户提高设计生产力。
• ModGen器件阵列：提供与关键合作伙伴共同开发的模块组，助设计师提高7nm工艺节点生产力，降低版图复杂度。
• 自动FinFET布局：支持自动FinFET网格布局，全面简化7nm工艺所需的基于颜色的FinFET设计方法。在充分了解 7nm工艺限制条件的基础上，Virtuoso先进工艺节点平台大幅简化了版图设计，并将7nm设计中常见错误发生的可能性降至最低；从而使定制的数字和 模拟模块的版图设计时间缩短最高达50%。
• 差异分析：支持针对FinFET技术的高性能蒙特卡洛分析和高西格玛分析，可使总的仿真时间缩短至原时长的十分之一。

“经过长期的创新实践以及与业界领袖的战略合作，Cadence已经成为先进工艺节点定制设计工具的顶尖供应商，”Cadence高级副总裁兼定制 ICå’ŒPCB事业部总经理Tom Beckley表示。“通过与联发科技等客户的广泛合作，我们降低7nm工艺设计成本的方法已获得充分证实。我们的许多客户都已使用Virtuoso先进 工艺节点平台成功流片，交付量产。”

关于楷登电子Cadence

Cadence公司致力于推动电子系统和半导体公司设计创新的终端产品，以改变人们的工作、生活和娱乐方式。客户采用 Cadence的软件、硬件、IP 和服务，覆盖从半导体芯片到电路板设计乃至整个系统，帮助他们能更快速向市场交付产品。Cadence公司创新的“系统设计实现” （SDE）战略，将帮助客户开发出更具差异化的产品，无论是在移动设备、消费电子、云计算、汽车电子、航空、物联网、工业应用等其他的应用市场。 Cadence公司同时被财富杂志评选为“全球年度最适宜工作的100家公司”之一。了解更多，请访问公司网站 www.cadence.com。