新思科技设计平台支持三星2.5D-IC多颗裸晶芯片集成技术
新思科技和三星携手提供定制化解决方案,为5G、人工智能和高性能计算应用提供支持
加州山景城2019年12月9日 -- 新思科技(Synopsys, Inc.,纳斯达克股票代码:SNPS)近日宣布推出设计解决方案来支持三星采用EUV光刻技术的7纳米LPP (Low Power Plus) (7LPP)上的2.5D-IC多颗裸晶芯片集成(MDI™)技术。新思科技Fusion设计平台和定制设计平台能够加快原型设计和分析,帮助设计人员应对来自5G、人工智能和高性能计算(HPC)等加速发展市场的上市时间压力。
三星Design Technology Team的Vice President, Jung Yun Choi表示:“多颗芯片和封装之间的耦合噪音会导致无法预测的性能问题。随着设计复杂度的日益提高,在后期设计阶段解决2.5D-IC系统问题变得更加困难。三星MDI设计流程集成了早期系统级探路所需的分析和设计实现功能,让客户克服性能问题的同时,实现具有成本效益的2.5D-IC产品。通过我们的合作,客户可以提前他们的开发日程并实现性能驱动产品的同时,缩短解决问题的时间。”
新思科技 Fusion 设计平台和定制设计平台支持的三星代工厂的7LPP 2.5D-IC MDI的关键产品和特征包括:
- Fusion Compiler™ RTL-to-GDSII解决方案:全自动硅中介层布线、微凸块、硅通孔和C4凸块间的最佳自动布局和布线
- IC Compiler™ II布局和布线:全面支持中介层制造、裸晶芯片间布局和布线以及中介层通道和电源布线
- RedHawk™ Analysis Fusion In-Design EM/IR:多颗裸晶芯片和硅中介层的无缝 In-Design EM/IR分析、通过清除遗漏过孔、开路或短路连线实现强大的电源分配网络设计,与ANSYS® RedHawk 签核分析的结果一致
- Custom Compiler™设计环境:基于功能强大的原理图的简单配置和SPICE deck自动生成功能实现用于HBM和高速接口(HSI)通道的电源和信号完整性分析
- HSPICE®信号完整性分析:PCIe Gen4的线性、瞬态和StatEye分析
- FineSim®电源和信号完整性分析:针对电源完整性、串扰、抖动的AC和瞬态分析以及HBM SSO分析
新思科技芯片设计集团营销与战略副总裁Michael Sanie表示:“随着人们对人工智能、高性能计算和5G等加速发展市场的多颗裸晶芯片集成越来越感兴趣,客户需要新的解决方案来解决传统手工设计不足以应对的最新电源和信号噪声挑战。新思科技设计解决方案使多颗裸晶芯片集成设计环境更容易、更高效,为三星的客户提供更快、更高性能的2.5D-IC产品。”
新思科技简介
新思科技(Synopsys, Inc. , 纳斯达克股票代码:SNPS)是众多创新型公司的 Silicon to Software™(“芯片到软件”)合作伙伴,这些公司致力于开发我们日常所依赖的电子产品和软件应用。作为全球第15大软件公司,新思科技长期以来一直是电子设计自动化(EDA)和半导体IP领域的全球领导者,并且在软件安全和质量解决方案方面也发挥着越来越大的领导作用。无论您是创建高级半导体的片上系统(SoC)设计人员,还是编写需要最高安全性和质量的应用程序的软件开发人员,新思科技都能够提供您所需要的解决方案,帮助您推出创新性的、高质量的、安全的产品.有关更多信息,请访问 www.synopsys.com。
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